Delta-X  多功能X射線衍射儀/反射儀

能滿足科學研究所和技術開（kāi）發中心不同材料（liào）體係的全方（fāng）位測試需求。

產品（pǐn）簡（jiǎn）介

       Jordan Valley公司設（shè）計的這款Delta-X多功能X射線衍射設備，可靈活應（yīng）用於材料科學研究、工藝開發（fā）、與生產質量控製等環境。Delta-X衍射儀可以在常規衍射模式、高分辨率衍射（shè）模式、X射線反射模式之間（jiān）靈活切換，衍射（shè）儀的光源台和探測台的光學元（yuán）件可以全自動化調（diào）控，並采用了水平（píng）式樣品（pǐn）台。

       光學配置的切換完全在菜單式程序控製下由計算機完成，無需手動操作。自動化切換和準直不需要專門人員和操（cāo）作（zuò）設備，並（bìng）確保每次切換（huàn）都能達到合適的光（guāng）學（xué）準直狀態 。

       常規的樣品測量可以通過Delta-X衍射儀實現部分、乃至完全的自動化運（yùn）行。自動化（huà）測量程序可以依客戶需求進行專門定製。也可采用完全的手動模式來操作衍射儀，以便發展新的測量方法，研究新材料體係。

       數據分析或擬合（hé）可（kě）以作為測量程序的一部分，能夠實現完全自動化，也（yě）可根據需求來單獨進行數據分（fèn）析。 如以半導體生產線為例，根據生產線的需求，可以將RADS和REFS擬合軟（ruǎn）件以（yǐ）自動化模（mó）式運行，能夠允（yǔn）許設備在沒有用戶幹擾的情況下自動（dòng）完成（chéng）常規性的（de）數據分析（xī），並直接完（wán）成數據擬合（hé）和結果輸出。RADS和REFS也（yě）可以單獨（dú）安裝，以便進行更詳細的數據分析。

產品特點

·  自動化進行（háng）樣品準直、測試、和數據分析

·  客戶（hù）可以自行（háng）設定測量的自動化程度（dù）

·  300 mm的歐拉環支架 (Eulerian Cradle) 設計，高精度的樣品定位和掃描

·  300 mm的晶片水平式放置，且可（kě）以完整映射（shè）

·  100° 的Chi 軸傾轉範圍、無限製範圍的 Ph i 軸旋（xuán）轉空間， 可實現極圖（tú）和殘（cán）餘應力測（cè）試

·  智能化的（de）光學配置切換（huàn）和準直。依測量需要（yào），自動選擇光學配置並實施光學準（zhǔn）直

·  強大的工業級（jí）設備控製軟件和數據分析軟件

·  高（gāo）分辨率（lǜ）測（cè）角儀，以保證精密且準確的測量

·   高強度的（de）光源（yuán）台設（shè）計和光（guāng）學元件組合，實現快速測量

·  多方麵廣泛的測試技術和測量參數

·  由擁有（yǒu）超過30年的高分辨率X射線衍射經驗的專家設計、製造，具有全球客（kè）戶經驗。

產品優勢

1、 自動化控製的光學係統

Delta - X衍射儀的入射束（shù）包括多種標準的光學配置（zhì）模式，使（shǐ）光學配置具有充分（fèn）的靈活性，且易於操作。可以依據測量樣品的材料類型（xíng），選擇（zé）參考晶體。

2、樣品台

Delta - X衍射（shè）儀的歐拉（Eulerian）環支架設計允許放置單個或多個晶片或樣品，並提供（gòng）多個轉動軸的大範（fàn）圍、高再現性的精確移動（dòng）控製。

      ·  可放置直徑 300mm晶片或多（duō）個小尺寸晶片、樣品

      ·  “邊緣至邊緣“全晶片測量（無邊緣測量失（shī）真現象）

      ·   可選配特（tè）殊（shū）環境樣品台，如高溫（wēn）、真空等。

3、探測台

     ·  閃爍（shuò）式高性（xìng）能點探測器，顯（xiǎn）著提高響應特性

      ·  性能卓越的線探測器（選（xuǎn）配件（jiàn））

4、自動化機械（xiè）手臂(Robot ) 選配件

      可選配全自動化機械手臂（bì），實現（xiàn）直徑≤300mm晶片的全自動（dòng）化裝卸和測量。

5、係統控製和數據采集

Delta - X衍射（shè）儀可以在不（bú）同模式下工（gōng）作，包括菜單式全（quán）自動化測量、各個軸的手動準直和掃描等。

      ·  利用（yòng）靈活、簡便的向導創建測量菜單

      ·  自動產生分析報（bào）告，提（tí）供實時信息（xī）和警示

6、專業用戶功能

專業用戶可以全麵使（shǐ）用Delta - X衍射儀的更多專業（yè）功能。控製軟件允許（xǔ）用戶使用從（cóng）完全自動操作到完全手動（dòng）準直和測量等的所有操作模式。

      ·  手動/自動化準直程序設置

      ·  可（kě）實現任何方向的專業掃描模式

      ·  功能強大的程序腳本

應用示例

·  高分辨率X射線衍射和弛豫度(Relaxation)

    材料：單晶（jīng）襯底材（cái）料（liào）（如Si，GaAs，InP，GaN)和外延層材料，包括多層外延膜結構

    參數（shù）：外延層厚度、組分、弛（chí）豫度、晶格應變、晶片均勻性、晶格失配、摻雜濃度、襯（chèn）底斜切角、外延傾角。

·  三軸X射線衍射和倒易空（kōng）間Map

    材料：單晶襯底材料（如Si，GaAs，InP，GaN)和外延層材料，包括多層外延（yán）膜結構

    參數：外延層厚度、組分、弛豫度、晶格應變、晶（jīng）片（piàn）均勻性、晶（jīng）格（gé）失配、摻雜濃度、襯底（dǐ）斜切角、外延傾角。

·  高分辨X射線衍射(HRXRD) 數據示例 

    -  GaN基多量（liàng）子（zǐ）阱結構

    -  矽襯底上生長III - V族材料（liào）

·  X射線反射(XRR )

    材料類型：薄膜（mó）

    參（cān）數：薄（báo）膜厚度、密度（dù）、粗糙度

    掃描方式：Omega - 2Theta掃描，Omega掃描，2Theta掃描

·  X射線衍射（shè）(XRD) 

    材料：測量多晶材料、納（nà）米材料、多晶薄膜等。對（duì）於超薄層材（cái）料、納米級厚度的薄膜材料，可以使用掠入射衍射。

    參數：相結構、織構（gòu）、晶粒尺寸、顆粒尺寸（cùn）、晶胞分析、結晶度分析、殘餘應力測定。

·  多晶薄膜的X射線衍射(XRD)

    材料：測量多晶材料、納米材料（liào）、多晶（jīng）薄（báo）膜等。對於超（chāo）薄層材料、納米級厚度的薄膜材料，可以使用掠入射衍射。

    參數：相結構、晶格常數、晶粒尺寸

·  多晶薄膜的掠入射X射線衍射(GI - XRD)

    材料：測量多晶材料、納米（mǐ）材料、多晶薄膜（mó）等。對於超薄層材料、納米級厚度的（de）薄膜材料，可以使用掠入射衍（yǎn）射。

    參數：相結構、織構（gòu）、結晶度（dù）

    掃（sǎo）描模式： 2Theta掃描(GI - XRD)

·  多晶薄膜的極圖：織構測定

    材料：測量多晶材料、納米（mǐ）材料、多（duō）晶薄膜等。

    參數：織構

    掃描方式： Chi軸和Phi軸的聯合掃描

·  薄膜的殘餘應力測定

    材料：測量（liàng）多晶材（cái）料、納米材料、多晶薄膜等。

    參（cān）數：殘餘應（yīng）力

    掃描方式（shì）： 2Theta軸和Chi軸聯合掃描

·  X射線衍射應用示（shì）例

    -  超薄High - K材料

    -  薄膜的（de）殘餘應力測定

分析軟件

Jordan Valley分析軟件包（bāo）已經擁有超過30年（nián）的使用經驗，並廣（guǎng）泛應用於薄膜材料結構特征的（de）X射線（xiàn）表征。以原英國Bede Scientific公司（sī）的分析軟件包為（wéi）基礎，Jordan Valley分（fèn）析軟件在研究領域和工業生產領域都具有廣（guǎng）泛的適用性和優異性，並（bìng）囊括了高分辨率X射線（xiàn）衍射（HRXRD ) 和X射線反射（shè）(XRR ) 自動化擬合軟件、通用分析軟件、映射圖繪製和（hé）分析軟件等。

-  JV RADS：在工業（yè）生產領域是飽（bǎo）受好評與信任的軟件，廣泛（fàn）用於單晶襯底（dǐ）上（shàng）生（shēng）長各種外延薄膜的HRXRD 數據分析。

-  MDI JADE：擁有強大的XRD數據（jù）分析功能，包括衍射圖譜的閱讀、處理（lǐ）、分析，能夠（gòu）準（zhǔn）確進行相鑒定分析。

-  JV REFS：用於分析X射線反射數（shù）據的軟件，軟件操（cāo）作簡（jiǎn）便、功能強大，廣泛應用在研發和生產領域。

-  JV Contour：可繪製和（hé）展（zhǎn）示2D或3D映（yìng）射（shè）圖（tú）

-  JV PeakSplit：提供（gòng）了直接分析（xī）HRXRD和XRD數據的多種功能，對HRXRD或XRD測（cè）量數據做圖形化展示，並可擬合（hé）峰形特征。

更多（duō）數據實例或詳細參數，歡迎與（yǔ）我司聯係索取。